簡要描述:Eksma FEMTOLINE激光分束器-5Femtoline激光分束器鍍膜@ 1030 nm,800 nm,515 nm,400 nm,343 nm,266 nm。激光損傷閾值:> 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型值為800 nm。
詳細介紹
品牌 | Eksma | 價格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma FEMTOLINE激光分束器-5
Eksma FEMTOLINE激光分束器-5
Femtoline激光分束器鍍膜@ 1030 nm,800 nm,515 nm,400 nm,343 nm,266 nm。激光損傷閾值:> 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型值為800 nm。
分束器將平均偏振激光束分成彼此分開90°的兩束。
標(biāo)準(zhǔn)基板厚度為3mm。如果您需要更薄的基板,請從Precision Thin Round Windows中選擇。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
產(chǎn)品型號
波長-800 nm
型號 | 材料 | 尺寸 | 波長 | 反射 | 透射 | 偏振 | AOI |
041-7720A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
041-7720P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
041-7720S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
041-7730A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
041-7730P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
041-7730S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
041-7750A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
041-7750P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
041-7750S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
041-7770A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
041-7770P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
041-7770S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
041-7780A | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
041-7780P | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
041-7780S | UVFS | ø12.7 x 3 mm | 800 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
042-7720A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
042-7720P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
042-7720S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
042-7725P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 25±3% | 75±3% | P-pol | 45° |
042-7730A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
042-7730P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
042-7730S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
042-7750A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
042-7750P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
042-7750S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
042-7770A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
042-7770P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
042-7770S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
042-7780A | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
042-7780P | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
042-7780S | UVFS | ø25.4 x 3 mm | 800 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
045-7720A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 20±3% | 80±3% | Average | 45° |
045-7720P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 20±3% | 80±3% | P-pol | 45° |
045-7720S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 20±3% | 80±3% | S-pol | 45° |
045-7730A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 30±3% | 70±3% | Average | 45° |
045-7730P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 30±3% | 70±3% | P-pol | 45° |
045-7730S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 30±3% | 70±3% | S-pol | 45° |
045-7750A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 50±3% | 50±3% | Average | 45° |
045-7750P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 50±3% | 50±3% | P-pol | 45° |
045-7750S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 50±3% | 50±3% | S-pol | 45° |
045-7770A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 70±3% | 30±3% | Average | 45° |
045-7770P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 70±3% | 30±3% | P-pol | 45° |
045-7770S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 70±3% | 30±3% | S-pol | 45° |
045-7780A | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 80±3% | 20±3% | Average | 45° |
045-7780P | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 80±3% | 20±3% | P-pol | 45° |
045-7780S | UVFS | ø50.8 x 8 mm | 800 nm | 80±3% | 20±3% | S-pol | 45° |
基材
材料 | UV級熔融石英 |
S1表面平整度 | 633 nm時為λ/ 10 |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
S2表面平整度 | 633 nm時為λ/ 10 |
S2表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度(MIL-PRF-13830B) |
直徑公差 | +0.00mm-0.12mm |
厚度公差 | ±0.25 |
平行性 | 30弧秒 |
倒角 | 在45°典型值為0.3mm |
鍍膜
技術(shù) | 電子束多層電介質(zhì) |
附著力和耐久性 | 符合MIL-C-675A。 不溶于實驗室溶劑 |
通光孔徑 | 超過中心直徑的85% |
入射角 | 45±3° |
背面防反射鍍膜 | R <0.5% |
激光損傷閾值 | > 100 mJ / cm2,50 fsec脈沖,典型800 nm |
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
EKSMA OPTICS是激光,激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué),美學(xué),軍事和航空航天市場的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用,激光介質(zhì)和非線性頻率轉(zhuǎn)換晶體,光機械,帶驅(qū)動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商,它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領(lǐng)域開始其一項業(yè)務(wù),其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長期專業(yè)知識。
公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割,研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
我們的激光組件工作在從UV(193 nm)到VIS到IR(20μm)的光譜范圍內(nèi),并在太赫茲(1-5 THz)范圍內(nèi)工作,可在科學(xué),工業(yè),醫(yī)學(xué)和美學(xué)領(lǐng)域的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用,軍事和航空航天市場。
EKSMA光學(xué)拋光設(shè)備專門從事由BK7,UVFS,Infrasil,Suprasil,CaF2以及DKDP,KDP,LBO,BBO,ZnGeP2晶體制成的平面光學(xué)器件的加工和終拋光,而大功率激光應(yīng)用需要高質(zhì)量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設(shè)備,球面,軸錐和非球面鏡片CNC制造設(shè)備,BBO,DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設(shè)備,超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術(shù)部門和質(zhì)量控制設(shè)備。
公司提供的所有組件均經(jīng)過質(zhì)量控制實驗室的高質(zhì)量測試和認證。
該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學(xué)和晶體組件。但是,我們還提供了廣泛的標(biāo)準(zhǔn)目錄產(chǎn)品,可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。
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