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雙凸透鏡（AR250~400nm）會(huì)將光線聚焦成一個(gè)點(diǎn)，焦距為正，由兩個(gè)半徑相等的凸面組成。常用于成像中繼系統(tǒng)以及在有限共軛距離下的物體成像。特點(diǎn)為，共軛比越大，產(chǎn)生的像差就越大。我們提供不鍍膜、鍍?cè)鐾改さ碾p凸鏡片。 增透膜選項(xiàng)包括UV、VIS、NIR、及SWIR。 鍺、硅或硒化鋅基片適用于紅外應(yīng)用,熔融石英則適用于紫外應(yīng)用。

雙凸透鏡（AR400~700nm）會(huì)將光線聚焦成一個(gè)點(diǎn)，焦距為正，由兩個(gè)半徑相等的凸面組成。常用于成像中繼系統(tǒng)以及在有限共軛距離下的物體成像。特點(diǎn)為，共軛比越大，產(chǎn)生的像差就越大。我們提供不鍍膜、鍍?cè)鐾改さ碾p凸鏡片。 增透膜選項(xiàng)包括UV、VIS、NIR、及SWIR。 鍺、硅或硒化鋅基片適用于紅外應(yīng)用,熔融石英則適用于紫外應(yīng)用。

雙凸透鏡（AR650~1050nm）會(huì)將光線聚焦成一個(gè)點(diǎn)，焦距為正，由兩個(gè)半徑相等的凸面組成。常用于成像中繼系統(tǒng)以及在有限共軛距離下的物體成像。特點(diǎn)為，共軛比越大，產(chǎn)生的像差就越大。我們提供不鍍膜、鍍?cè)鐾改さ碾p凸鏡片。 增透膜選項(xiàng)包括UV、VIS、NIR、及SWIR。 鍺、硅或硒化鋅基片適用于紅外應(yīng)用,熔融石英則適用于紫外應(yīng)用。

雙凸透鏡（AR1000~1650nm）會(huì)將光線聚焦成一個(gè)點(diǎn)，焦距為正，由兩個(gè)半徑相等的凸面組成。常用于成像中繼系統(tǒng)以及在有限共軛距離下的物體成像。特點(diǎn)為，共軛比越大，產(chǎn)生的像差就越大。我們提供不鍍膜、鍍?cè)鐾改さ碾p凸鏡片。 增透膜選項(xiàng)包括UV、VIS、NIR、及SWIR。 鍺、硅或硒化鋅基片適用于紅外應(yīng)用,熔融石英則適用于紫外應(yīng)用。

雙凸透鏡（雙面增透3~5微米）會(huì)將光線聚焦成一個(gè)點(diǎn)，焦距為正，由兩個(gè)半徑相等的凸面組成。常用于成像中繼系統(tǒng)以及在有限共軛距離下的物體成像。特點(diǎn)為，共軛比越大，產(chǎn)生的像差就越大。我們提供不鍍膜、鍍?cè)鐾改さ碾p凸鏡片。 增透膜選項(xiàng)包括UV、VIS、NIR、及SWIR。 鍺、硅或硒化鋅基片適用于紅外應(yīng)用,熔融石英則適用于紫外應(yīng)用。

雙凸透鏡（雙面增透8~12微米）會(huì)將光線聚焦成一個(gè)點(diǎn)，焦距為正，由兩個(gè)半徑相等的凸面組成。常用于成像中繼系統(tǒng)以及在有限共軛距離下的物體成像。特點(diǎn)為，共軛比越大，產(chǎn)生的像差就越大。我們提供不鍍膜、鍍?cè)鐾改さ碾p凸鏡片。 增透膜選項(xiàng)包括UV、VIS、NIR、及SWIR。 鍺、硅或硒化鋅基片適用于紅外應(yīng)用,熔融石英則適用于紫外應(yīng)用。

雙凸透鏡（未鍍膜）會(huì)將光線聚焦成一個(gè)點(diǎn)，焦距為正，由兩個(gè)半徑相等的凸面組成。常用于成像中繼系統(tǒng)以及在有限共軛距離下的物體成像。特點(diǎn)為，共軛比越大，產(chǎn)生的像差就越大。我們提供不鍍膜、鍍?cè)鐾改さ碾p凸鏡片。 增透膜選項(xiàng)包括UV、VIS、NIR、及SWIR。 鍺、硅或硒化鋅基片適用于紅外應(yīng)用,熔融石英則適用于紫外應(yīng)用。

別漢棱鏡組是一種光學(xué)棱鏡組，可以讓影像做180°的旋轉(zhuǎn)，個(gè)棱鏡組由兩個(gè)被空 氣隙分離的鍺棱鏡組成，多次的全反射造成影像在垂直方向的翻轉(zhuǎn)，在二個(gè)棱鏡 的“屋頂” 將影像做了側(cè)向的翻轉(zhuǎn)，一起導(dǎo)致影像180°的旋轉(zhuǎn)。 它的透射光譜范 圍為2--12μm,常用于紅外光學(xué)系統(tǒng)或紅外光譜儀系統(tǒng)。